технологии и оборудование научые исследования информационные ресурсы

 
 

 

3D Ионная Имплантация

Направление:

  • Обработка конструкционных материалов высокоэнергетическими ионными потоками

  • Комбинировые плазменно-ионные методы обработки

3D Ионная Имплантация – метод обработки, при котором высокоэнергетический ионный поток на изделие  формируется непосредствено в процессе горения импульсного самостоятельного разряда между заземленной вакуумной камерой и изделием, являющемся катодом. Ионы, ускоренные в поле прикатодного падения малой толщины эффективно модифицируют поверхность изделия, которое может иметь сложную объёмную форму. Падающие ионы генерируют электронный пучок с поверхности изделия, который за счет взаимодействия с плазмой обеспечивает самоподдержание разряда.Имеет значительные преимущества перед лучевыми методами за счет простоты и относительно меньшей цены при реализации технологических процессов.Хорошо сочетается с другими плазменно-ионными методами обработки, такими как различные виды напылений (магнетронное, вакуумно-дуговое) и плазменно-термическими методами, такими как ионное азотирование.

Discharge zones Implant Picture
Распределение плотности плазмы Электронные лучи Рабояая камера с вакуумной системой


В рамках направления реализуются:
 

Исследовательские программы:
  • Исследование структуры разряда. Развитие плазменно-пучковых неустойчивостей в разрядном объёме. Механизмы генерации ионного потока на катод. Катодные процессы: внедрение, распыление, вторичная ион-электронная эмиссия. Математическое моделирование процессов в высоковольтном разряде.
  • Исследование структуры модифицированных поверхностей и изменения свойств модифицированных поверхностей.
  • В рамках исследовательских программ ведутся совместные работы с UIS (www.uis.edu.co)
Опытно-конструкторские работы:
  •  Разработку оборудования для проведения исследовательских работ.
  •  Производство и поставку технологического оборудования для реализации 3D ионной имплантации и комбинированных методов обработки на её основе:
    • Высоковольтные импульсные трансформаторные генераторы прямоугольных импульсов для 3DИИ применений. Выходной регулируемое напряжение 5-80кВ. Мощность до 4кВт. Регулируемая длительность ВВ импульса 30мкс-2мс, частота повторения до 200Гц. Система защиты от КЗ. Компьютерное управление.
    • Вакуумные агрегаты на базе турбомолекулярного насоса с производительностью 720л/с. Компьютерное управление всеми узлами агрегата.
    • Одно и мноканальные пьезострикционные системы натекания и поддержания заданного расхода газа с производительностью по азоту до 0,5Вт с компьютерным управлением.
    • Охлаждаемые керамические высоковольтные вакуумные токовводы.
    • Оборудование нанесения покрытий и реализации комбинированных технологий на базе магнетронных и вакуумно-дуговых систем распыления материалов.

Сотрудничество

    Мы ищем партнеров для кооперации в создании прототипов устройств, работающих на основе барьерного разряда.
    Все пожелания и предложения присылайте по адресу : tsyg@power.bmstu.ru

 
Copyright © 1998-03 Plasma LAB | e-mail:tsyg@bmstu.ru